氧化镁石研磨机械多少钱一台

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1.1.2化学机械抛光技术的产生与发展 根据抛光浆料与硅片表面间的作用原理,半导体硅片抛光工艺可分为三类:机械抛光、化学抛光和化学机械抛光。 机械抛光是早期一、抛光技术 初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光(一)圆盘机 圆盘机(见图51)是在三合一清洗机的基础上改造而成的,一般机械采用单相AC220V电压,功率1.5~4HP(1HP=735.499W),机械转速150290r/min,适合于小面积、地面平整区域、材质

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